本报合肥1月12日电记者李陈续从此间获悉,国内首台亚微米级无掩膜(直写式)光刻机已于2007年底在合肥经济技术开发区研制成功,并于11日通过专家鉴定。由中国工程院张钟华院士、叶声华院士领衔的专家鉴定组一致认定:产品性能稳定可靠,不仅填补了国内光刻机在其领域内的空白,并在国际同类产品中处于
中国作为全球集成电路最大消耗国,每年所用集成电路占全球总量近四分之一,但是国产集成电路国内市场自给率却不足10%。与国外先进水平相比,我国半导体设备业的设备加工线宽相差几个技术档次,已成为半导体和集成电路产业链中最薄弱的环节之一。而光刻机是半导体芯片制造中的最核心设备,目前我国生产用光刻机还全部依赖进口。
芯硕公司研制的无掩膜(直写式)光刻机,经专家鉴定分辨率已经达到亚微米,性能稳定可靠,在兼顾了高产能与高分辨率的同时,极大的降低了使用成本,且应用范围十分广泛,相比国际同类产品不仅可应用于半导体行业,而且还可广泛应用于生物、医药、光电、太阳能电池、新能源及薄膜电路等不同领域,其最大特点在于亚微米级的高产能、操作便捷、运行成本低。专家评价,这不仅打破了中国没有能力生产自己的亚微米级直写式光刻机的局面,同时也为中国半导体设备制造技术的提高打下坚实的基础,对中国微电子产业的发展具有重大的社会意义和经济价值。
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